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K-Cellシリーズ

高温Kセル(THKC-1300H1・THKC-1900HI)

高温Kセル

特長

  • 低放出ガス特性を実現します
  • 蒸発材料未投入にて、1500℃に加熱した場合10-8Paの真空度を保持します（弊社、超高真空チャンバーにて測定）
  • 放出ガスが少ないため、正確なフラックス測定が行え、高純度な成長が可能となります（EBガンよりフラックスの制御性に優れています）
  • 高融点材料の蒸発源として、ご使用頂けます
    　（例）　金属エピタキシャル、酸化物超伝導など

仕様

  • 最高加熱温度
  • ヒーター
  • ルツボ材質


  • ルツボ容量
  • ・・・　1500℃
  • ・・・　トップヒート型
  • ・・・　アルミナ（4N Al2O3)
           （その他、投入材料に応じて
           材質選択）
  • ・・・　10または25cc
寸法図
型式 ルツボサイズ
（mm×cc）		 A
(mm)		 B
(mm)		 C
(mm)		 取付フランジ
シャッタ無 シャッタ有
THKC-1300-H1 Φ13×10 Φ13 Φ30 ＞250 ＞ICF70 ＞ICF114
THKC-1900-H1 Φ19×25 Φ19 Φ35 ＞280 ＞ICF70 ＞ICF114

データ例（高温Kセル）

高温Kセルを用いて、Niビーム源とした例 高温Kセルの放出ガス特性
Kセル温度：1340℃
高温Kセルを用いて、Niビーム源とした例 高温Kセルの放出ガス特性
NiAl/AlAsの電子顕微鏡像


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