MBE/MOCVD TECHNOLOGY
ホーム
会社概要
製品紹介
通信販売
トピックス
採用情報
お問い合わせ
ホーム
>
製品紹介
>
K-Cellシリーズ
> ガスセル
K-Cellシリーズ
ガスセル(GC-1800SH)
特長
導入された各種ガス原料を、蒸発・昇華させて分子線を発生させます。
使用例 : AsH
3
, PH
3
等の半導体ガスや有機金属
ガス等。
仕様
るつぼ
加熱温度
ガス導入口
取付フランジ
シャッター機構
・・・ 特殊るつぼ、特殊インナー材
・・・ 最高1300℃
・・・ VCR1/4
・・・ ICF114以上
・・・ 有(圧空駆動/手動)または無
製品案内
MBE装置
MOCVD装置
液体原料供給MOCVD装置
高温CVD装置
面発光レーザー作製用酸化装置
高温真空ベーキング装置
/ 小型蒸着装置
SiC用高温真空炉
Kセルシリーズ
KOHエッチング装置
その他製品