MBE/MOCVD TECHNOLOGY

低圧RFスパッタ装置　 　　　　　

高真空対応のスパッタガンを用いることにより、10^-2Pa台においても薄膜形成が可能です。

マイクロチャンバ

測定用基板を小型チャンバー内にセットし、真空引きガス導入及び加熱が可能です。また、チャンバー上部には観測用の窓を備え、顕微鏡による観察も可能です

RHEED (型式：RHP-307)

磁場偏向および、ベローズによるビーム軸調整機能を内蔵。フィラメント部の差動排気が可能な配管取付ポートをオプションとして追加できます。
■最大加速電圧：30kV
■取付フランジ：ICF70またはICF114

RHEED用カメラボックス

RHEEDスクリーン用の暗箱です。
CCDカメラやデジタルカメラの取付が可能です。

アクセスドア 　　　　　

基板出し入れ用のハッチです。ロードロック室への取付が可能です。

ガスフローシミュレーション受託解析サービス 　　　　　

3次元熱流体解析(CFD)ソフトを用いて、お客様の実験のお手伝いを致します。

多目的アニール装置（At-50） 　　　　　

多目的なアニール処理が可能です。
手動トランスファーロッドにより、加熱部への試料の出入れが短時間で行え、
高速の昇温/降温が可能です。

小型集光加熱炉 　　　　　

真空対応石英管と集光型ランプとの組み合わせにより、
低価格で本格的な高速昇温／降温プロセスが可能です。
1400℃までの加熱が可能です。