MBE/MOCVD TECHNOLOGY
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多目的アニール装置(AT-50)
特長
多目的なアニール処理が可能です。
手動トランスファーロッドにより、加熱部への試料の出入れが短時間で行え、高速の昇温/降温が
可能です。
仕様
ガス制御部
加熱部
搬送室
真空排気部
電機制御部
窒素、アルゴン、酸素導入
電気加熱方式(1ゾーン)
基板サイズ:□25mm×1枚
基板加熱温度:Max.1100℃
基板導入ハッチ
手動トランスファーロッド方式
ロータリーポンプ(167L/min)
操作パネル
基板加熱電源(プログラマブル温度制御)
各種インターロック・異常処理機能
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