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面発光レーザー作製用酸化装置

VOX3001 / iVOX3001(モニター付)PDF印刷

iVOX3001

仕様

  • 基板サイズ
  • 基板加熱
  • 最高加熱温度
  • 原料供給系

  • 真空排気系
  • 制御装置
  • 酸化性能
  • ・・・ Φ3インチ×1枚
  • ・・・ 抵抗加熱方式
  • ・・・ 600℃(制御用熱電対値)
  • ・・・ 液体マスフローコントローラ方式
       熱式気化器(MAX.180℃)
  • ・・・ ダイヤフラムポンプ
  • ・・・ インターロック用シーケンスコントローラ
  • ・・・ 面内均一性/20μm±0.2μm
         (周辺部除く3インチ基板内)
        再現性/20μm±0.2μm(ランtoラン)
         ※但しAlAsエピ層の特性による。

VOX4001 / iVOX4001(モニター付)PDF印刷

iVOX4001

仕様

  • 基板サイズ
  • 基板加熱
  • 最高加熱温度
  • 原料供給系

  • 真空排気系
  • 制御装置
  • 酸化性能
  • ・・・ Φ4インチ×1枚
  • ・・・ 抵抗加熱方式
  • ・・・ 600℃(制御用熱電対値)
  • ・・・ 液体マスフローコントローラ方式
       熱式気化器(MAX.180℃)
  • ・・・ ダイヤフラムポンプ
  • ・・・ インターロック用シーケンスコントローラ
  • ・・・ 面内均一性/20μm±0.2μm
         (周辺部除く4インチ基板内)
        再現性/20μm±0.2μm(ランtoラン)
         ※但しAlAsエピ層の特性による。