Ｋセル-4　Ｓｉ用高温Ｋセル

特徴

本製品は世界で初めて、Si用として開発されたＫセルであり、ＥＢガンでは、従来コントロールできなかった高精度（0.005～0.5Å/s）の膜厚制御が可能です。

仕様

■最高加熱温度･･･････････１６００℃

■ルツボ容量･････････････・４ｃｃ

■取り付けフランジサイズ･･･ＩＣＦ７０以上

データ例（Ｓｉ用高温Ｋセル）

Ｓｉ用Ｋセル温度と成長速度の関係	ＰＬスペクトル

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EpiQuest,Inc.
株式会社　エピクエスト

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