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K-Cellシリーズ

Si用高温Kセル(THKC-1000H1)

Si用高温Kセル

特長

本製品は、世界で初めてSi用として開発されたKセルであり、EBガンでは従来コントロールできなかった高精度(0.005〜0.5Å/s)の膜厚制御が可能です。

仕様

  • 最高加熱温度
  • ルツボ材質
  • 取り付けフランジサイズ
  • ・・・ 1600℃
  • ・・・ 4cc
  • ・・・ ICF70以上

データ例(Si用高温Kセル)

Si用Kセル温度と成長速度の関係 PLスペクトル
Si用Kセル温度と成長速度の関係 PLスペクトル


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